然后是离子注入28纳米、CMP抛光14纳米、金属化、14纳米和测试28纳米。
最后的后道工序技术难度不高，就是封测，联盟的封测厂商可以达到5纳米的技术标准。
总的来看还不错，除了光刻机90纳米和两项5纳米，其他基本都在14-28纳米之间，好像大部分芯片都能生产。
但根据短板理论，芯片制程高低取决最差的环节，所以全部用国产设备只能生产90纳米的芯片。
不过都到这里了，吴用也不介意给他们透露一些好消息。
“诸位，芯片的问题基本不用担心，咱们国产的光刻机技术也要有所突破了。”
见吴用微笑着说出这句话，在座的人不由得一愣。
“难道贵公司还有光刻机技术？”
某为的余总最先问出来。
要说在座的各位谁对光刻机的需求最大，那么非某为莫属了，毕竟只有它被限制了使用芯片。
虽说它的主营业务是交换、传输、无限和数据通信的电信产品，手机业务的占比不是特别大，但那也算是砍了它一刀。
而且别看祥瑞9000芯片被制裁了，可某为并没有放弃它的产品迭代，而是在继续研制。
只要光刻机到位，他们马上可以生产二代祥瑞芯片，直接让手机业务满血复活！
所以在听到吴用说光刻机技术有所突破的时候，怎么可能憋得住！
“当然。”
吴用看着余总指了指“升级Z”的摄像模组，“光刻机的核心部分就是光源和镜头，巧的是我们在这两个领域都有所建树。”
“这款设备上的迷你镜头模组只是相关技术的一个小展现，光刻机上串联镜片组成的曝光光学系统才是完全技术展现，而光源也是一样，我公司在激光领域也有很高的技术实力……”
PS：感谢“08a”的打赏~~
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