“首先，我们现在还需要台及电！”
“我们自己的芯片制造厂，依然还没办法量产10nm的芯片，更不要说更为先进的7nm级别的芯片了。”
“不过更为关键的是，我们高瓴需要华国国产光刻机的配合！”
“如果没有国产光刻机，我们根本无法生产更为先进的芯片。”
高怀钧淡淡地说道。
现在高瓴可以成熟量产20nm的芯片。
不过，这是建立在阿斯麦公司稳定提供光刻机的基础上的。
现在因为管控自裁，不仅仅是台及电要在90天之后撤掉，而且阿斯麦的维护人员，也会在90天之后撤掉！
也就是说，在90天之后，高瓴的芯片制造厂，会在一个完全没有零部件配给的条件下，暴露式的工作。
这并不是什么危言耸听的事情。
而是事实！
不要说在这个时代，就算是在高怀钧穿越前的的2023年，芯片一直以来都是华国电子产业行业的达摩克利斯之剑。
并且，短时间之内，没有可以解决的可能性。
西大这一招，虽然自伤1000，但是也是损敌800！
不过，不管怎么说，钳制住高瓴这样的公司，还是非常实用和有效的。
高怀钧虽然有认知金手指，但是有些东西，不是你想搞就能搞。
虽然他有后手，但是，现在暂时还不想有所动作。
他想提升光刻机在华国的优先度！
为此，骗人先骗己，就算是高瓴内部，他也是要逼迫他们迸发最大的潜力出来。
“光刻机。。。”
“我知道，伱们高瓴一直对05专项计划注入了资金，让这个项目有了实质性的进展。”
“不过。。。”
说到此处，张领导说话之间有些犹豫。
对于光刻机的进度，他比任何人都清楚。
在原来的05专项计划之中。
项目的目标，是利用世界上各种零部件，组装出一台实用的DUV湿式光刻机出来！
不过，因为高怀钧希望有B方案，并且提供额外的研发资金，希望能够有自主可控的零部件配置。
所以05专项计划，不出意外地时间拖延了。
高怀钧无奈，但也没法。
因为光刻机这玩意儿，最大的难点是三个。
一个是光源。
要产生13.5纳米波长的极深紫外光，目前的做法是用高功率的激光轰击一个直径只有三千万分之一米的小锡球（就是金属锡的锡）。
这种激光器全世界只有一家德意志国公司能生产，这家叫通快的德意志国公司用了十年时间才研发成功，单单是这台激光器就有多个零件。
但没想到的是，通快公司的这台激光器又依赖于一家立陶宛的公司提供关键设备，没有这家立陶宛公司制造的光源设备，通快公司也不行。
下一个难关是如何把这种极深紫外光收集起来，形成一束极深紫外光的激光。
光学系统。
为EUV研制的这套光学系统全世界也只有一家德意志国公司能制造，它就是大名鼎鼎的蔡司公司。
蔡司生产的相机镜头是世界上最好的镜头之一，可是相机镜头与EUV光学系统用的镜头比起来，那就好像是螺旋桨撒农药的飞机和喷气式战斗机的差别了。
这套光学系统至少涉及以下这些技术挑战：高精度非球面加工，多层膜反射镜，高质量熔炼，离子束抛光技术，极限精度磨制。
最终的目标是要制作出一片绝对光滑平整的镜片，要光滑到什么程度呢？
就是三体中水滴的那种光滑程度，镜片的起伏就是大约一个原子的误差，接近理论上的物理极限。
如果用蔡司自己的宣传比喻，就是把这片镜片放大到整个德意志国那么大，起伏也没超过0.1毫米。
如果一个病毒落在这片镜子上，那就好像拔地而起一座百米小山。
最后一个是控制台。
这就是精密仪器工作台。
为了把几百亿个晶体管刻成，需要一个精度极高极高的控制台，这个控制台由个高精度的零件构成，而这些零件又至少依赖于岛国，寒国，呆弯，美丽国，德意志以及贺兰等国家提供的专利技术，少了任何一个都不行。
现在这台光刻机需要做到自主可控，就不是以1敌1，而是以一敌众了！
以前工信部对于这台05专项的光刻机也不是很上心。
因为光刻机的市场规模就是那么一点点大，但ASML一家公司已经依仗自己的技术能力，占据了光刻机市场90%以上市场份额。
所以岛国的两家本来也具有光刻机生产能力的公司，因为从市场上始终赚不到钱，就只能渐渐退出了光刻机市场。
也就是说，光刻机市场实际上已经是一个成熟的市场了，ASML一家独大的局面已经长期存在，在技术没有出现重大变化之前，这个局面也就会长期保持下去了。
任何一家新进光刻机厂家，首先要考虑的就是需求在哪里。
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