经过一段时间的研究，它们也是发现在光源这块确实很难，euv在穿透物体的时候散射吸收是个巨大的问题，这就需要光刻机需要非常强大的光源，再加上euv连空气都能吸收，所以机器内部还得做成真空的，再加上内部各种精密的零部件这对于工艺来说同样是一个巨大的考验。
而且由于光刻精度是几纳米，euv对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30cm且镜面的起伏不到0.3纳米，这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。
所以euv不仅是顶级科学的研究，也是顶级精密制造的学问。
一台euv光刻机重达180吨，其中超过了10万个零件，需要四十个集装箱运输，安装调试都要超过一年时间，可以说真的是没有一定的技术储备，设计图纸给你你都造不出来。
其实euvllc联盟早在1997年便已经成立，在97年到03年的六年间，euvllc的科学家发表了几百篇论文，验证了euv光刻机的可行性，然后euvllc联盟解散。
虽然说是解散但是实际上不过是移交到了阿斯麦手里，阿斯麦几乎是全部继承了euvllc联盟关于euv光刻机方面的知识，而现在英特尔重新号召不过是为了加大投入想要抢先一步研制出来，毕竟以前没有对手完全可以慢慢来，但是现在有了对手出现，在慢慢发展显然不可行了，就像当初美苏冷战的军事竞赛一样，科技简直是迅猛发展航天就是在当时的背景下迅速进步的。
而就在eucllc讨论如何解决光源问题得到时候，华夏突然宣布，将kbff晶体列为战略资源，不再对外出口。
asml：......
英特尔：......
APC:......
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